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广州开发区、黄埔区：支撑光刻、清洗、刻蚀、离子注入、堆积等设备、要害零部件及东西国产化代替

• 来源：华体汇app入口    发布时间：2025-06-24 14:38:01

　　每经AI快讯，《广州开发区 黄埔区支撑集成电路工业高水平展开若干方针措施》近来发布。其间提出，鼓舞展开光掩模、电子气体、光刻胶、抛光资料、高纯靶材等高端半导体和传感器制作资料。活跃引入国内要点根底资料企业，稳步提高要害根底资料供给才能。要点环绕集成电路制作核心部件和系统集成展开继续研制和技能攻关，支撑光刻、清洗、刻蚀、离子注入、堆积等设备、要害零部件及东西国产化代替。关于新引入的固定资产出资1000万元以上的工业化项目，且方针有用期内完成小升规的企业，依照不超越其设备和工用具出资额的15%分档给予扶持，最高1000万元。

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